清洗包括工業(yè)生產(chǎn)過程中對機械零件,、電子元件,、光學元件等的清洗,,目的是去除微小的污垢顆粒,。
超聲波清洗機根據(jù)清洗方法的不同,也可分為物理清洗和化學清洗:利用力學,、聲學,、光學、電學,、熱學原理,,依靠外部能量的作用,如機械摩擦,、超聲波,、負壓、高壓等,。在罷工中,。紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢的方法稱為物理清洗,;根據(jù)化學反應的作用,,使用化學藥物或其他溶劑清除物體表面的污垢稱為化學清洗。如使用各種無機或有機酸去除物體表面的銹,、垢,,用氧化劑去除物體表面的色斑,用殺菌劑,。消毒劑殺滅微生物,、去除霉菌等。物理清洗和化學清洗各有優(yōu)缺點,,具有很好的互補性,。在實際應用過程中,通常將兩者結(jié)合使用,,以獲得更好的清洗效果,。
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同,又可分為濕法清洗和干法清洗:一般在液體介質(zhì)中清洗稱為濕法清洗,,在氣體介質(zhì)中清洗稱為干法清洗,。傳統(tǒng)的清洗方式大多是濕法清洗,,人們更容易理解干洗是吸塵器。但近年來,,干洗業(yè)發(fā)展迅速。如激光清洗,。紫外線清洗,、等離子清洗、干冰清洗等,,在高,。精細工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展迅速。